产品简介：
设备结构紧凑，净化占地面积小，造型美观、实用，操作符合人机工程原理。
适用于2”-8”基片的半导体清洗工艺中,有效去除硅/晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。根据不同清洗工艺配置相应的清洗单元，各部分有独立控制，随意组合；可根据用户要求配置氮、DI水枪、恒温水浴、热台、超声清洗、DI水在线加热装置、DI水电导率测试仪器等。设备结构紧凑，净化占地面积小，造型美观、实用，操作符合人机工程原理。
产品特点：
1、炉前清洗：扩散前清洗。
2、光刻后清洗：除去光刻胶。
3、氧化前自动清洗：氧化前去掉硅片表面所有的沾污物。
4、抛光后自动清洗：除去切、磨、抛的沾污。
5、外延前清洗：除去埋层扩散后的SiO2及表面污物。
6、合金前、表面钝化前清洗：除去铝布线后，表面杂质及光胶残渣
7、离子注入后的清洗：除去光刻胶，SiO2层
8、扩散预淀积后清洗：除去预淀积时的BSG和PSG。
9、外延前清洗：除去埋层扩散后的SiO2及表面污物。
10、CVD后清洗：除去CVD过程中的颗粒。
真萍科技(真萍微电子装备)是专业从事烘烤制程设备，半导体黄光区专用设备，环境与可靠性试验设备,电镀清洗设备，防潮防氧化专业设备等产品的生产和销售供应厂商，是以一批多年从事环境试验设备、防潮防氧化设备,半导体黄光区专用设备，电镀清洗设备等行业的专业工程技术人员为核心，具有设计、制造、销售及售后服务能力的综合性企业。
本公司自成立之初，一直秉承客户至上的服务理念，满足客户持续增长的需求，不断为客户提供品质优良、价格合理的产品，降低客户的生产成本，提高客户的竞争力，为客户创造价值
在广大客户的支持下，本公司的业务蒸蒸日上，在航空、航天、电子、光电、半导体、军工、邮电、石油化工、制药、医疗、生物工程、高等院校、科研单位等领域取得了良好的业绩，已得到广大客户的认同和称赞。目前服务的客户遍布沿海各省。
主要服务客户：台积电、中芯国际、德州仪器、长电、BYD、 IPEC 、华东科技、苏州晶方、合晶硅、 富士通、宁波芯健、松下、 三星、 立立电子、 中环 、万向 、尚德电力 、华润上华、华润华晶、 中国电子科技集团公司第8、12、15、21、41、43、58所、诺基亚 、西门子、富士康、英顺达、广达、龙腾光电、INTEL、京东方、三安光电、同方、华芯半导体、锐金光电、 江淮、 奇瑞、 博物馆、中科院化学所、中科院物理所 、中科院光电所 等各院所 军工 各地方重点大学等等.
公司官网：www.ahzpkj.com www.tphte.com
全国服务热线：400-608-2908
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